本底有機污染對高級氧化聯(lián)用技術(shù)去除飲用水中內(nèi)分泌干擾物—DMP的影響
| 論文類型 | 技術(shù)與工程 | 發(fā)表日期 | 2005-09-01 |
| 來源 | 飲用水安全保障技術(shù)與管理國際研討會 | ||
| 作者 | 芮曼,徐斌,高乃云,張巧麗,趙建夫,樂林 | ||
| 關(guān)鍵詞 | 飲用水 鄰苯二甲酸二甲酯 高級氧化 腐殖酸 副產(chǎn)物 | ||
| 摘要 | 本文使用腐殖酸模擬本底天然有機物進行試驗，采用UV—H2O2、O3、UV-O3三種高級氧化工藝，研究了本底有機污染對三種高級氧化聯(lián)用技術(shù)去除飲用水中內(nèi)分泌干擾物-DMP的影響。研究表明本底有機物對UV-H2O2聯(lián)用工藝氧化DMP的影響非常大，特別是在低濃度本底條件下；對于衡量水中有機物的兩種指標(biāo)UV254與TOC，選擇TOC作為UV—H2O2聯(lián)用工藝中衡量本底有機物污染指標(biāo)考察對DMP去除的影響比較合適。腐殖酸的存在對O3氧化DMP的影響比較復(fù)雜，試驗中本底TOC為2.332mg/L時O3氧化DMP的效果 | ||
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