UV/O3 氧化鄰苯二甲酸二甲酯溶液研究
| 論文類型 | 技術(shù)與工程... | 發(fā)表日期 | 2003-04-01 |
| 來(lái)源 | 武漢科技學(xué)院學(xué)報(bào) 2003年04月 第16卷 第2期 | ||
| 作者 | 施銀桃,李海燕,曾慶福 | ||
| 關(guān)鍵詞 | 鄰苯二甲酸二甲酯 紫外光 臭氧氧化 氧化 有機(jī)碳 | ||
| 摘要 | 鄰苯二甲酸二甲酯為環(huán)境優(yōu)先控制污染物。本文采用紫外光－臭氧氧化法、單純紫外光照及單純臭氧氧化法處理鄰苯二甲酸二甲酯廢水。結(jié)果表明：?jiǎn)为?dú)紫外光照及單獨(dú)臭氧化對(duì)鄰苯二甲酸二甲酯溶液的TOC去除率很低，紫外光催化臭氧化可加速有機(jī)物的礦化。UV/O3較單獨(dú)臭氧化TOC 由單獨(dú)臭氧化的33%可提高到100%。在同樣時(shí)間條件下，UV/O3、單獨(dú)O3、單獨(dú)UV 三者對(duì)鄰苯二甲酸二甲酯礦化作用由大至小為：UV/O3 、O3 、UV。 | ||
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