UV-H2O2工藝對飲用水中DMP的去除效果和影響因素
| 論文類型 | 技術(shù)與工程 | 發(fā)表日期 | 2006-06-01 |
| 來源 | 環(huán)境化學(xué) 第25卷 第4期 | ||
| 作者 | 趙丹丹,高乃云,芮旻,徐斌,趙建夫,樂林生 | ||
| 關(guān)鍵詞 | 飲用水 鄰苯二甲酸二甲酯 UV輻照 高級氧化工藝 | ||
| 摘要 | 采用UV2H2O2工藝對飲用水中內(nèi)分泌干擾物鄰苯二甲酸二甲酯(DMP) 的去除進行研究, 結(jié)果表明, 單獨的UV或H2O2都不能有效氧化去除DMP; 而UV2H2O2聯(lián)用工藝對飲用水中DMP具有很好的去除效果1在原水DMP濃度為511496 ×10 - 3mmol·l- 1 (110mg·l- 1 ) 左右, UV光強13319μW·cm - 2 , H2O2投加量20mg·l- 1和反應(yīng)時間60min條件下,DMP的去除率可達到9718%1探討了反應(yīng)速率常數(shù)隨影響因素變化的規(guī)律, 其中H2O2濃度、pH | ||
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